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半導體光刻機(超精密定位)

  • 應用場景:ASML EUV光刻機晶圓臺驅(qū)動

  • 滾珠絲杠作用:控制晶圓臺的納米級移動,確保曝光精度。

  • 技術(shù)參數(shù)

    • 直徑:16mm,導程:2mm(微導程設計)

    • 精度等級:C0級(定位精度±0.001mm)

    • 溫控要求:±0.1℃內(nèi)(減少熱變形)

  • 優(yōu)勢:超高精度、抗振設計,匹配激光干涉儀閉環(huán)反饋系統(tǒng)。